El próximo 20 de octubre vuelve el “IX Foro sobre la Gestión de los Residuos Industriales” al Círculo de Bellas Artes de Madrid. Un asunto clave que se va debatir en este encuentro es el nuevo papel de los productores de los residuos. Con la nueva ley de residuos y suelos contaminados, que entró en vigor el pasado mes de abril, el productor o poseedor inicial del residuo pasa a un modelo de responsabilidad compartida en la gestión.
Esto implica que los productores ya no podrán delegar su responsabilidad una vez entregado el residuo al gestor y deberán asegurar y documentar un tratamiento final adecuado porque, en caso de accidentes o daños al medioambiente, también tendrían que afrontar los gastos correspondientes para atender su responsabilidad civil. Por eso, la adecuada clasificación del residuo resulta fundamental para que se empleen las mejores técnicas y tratamientos posibles en el mercado y obtener materias recicladas de una mayor calidad.
Para debatir todas estas cuestiones, en el foro se ha organizado una mesa a las 11:30 en la que participan los siguientes ponentes:
- Javier Agirre, Director de Calidad Ambiental y Economía Circular del Gobierno Vasco.
- Alfonso Urquijo, Director de Desarrollo de Negocio y de la Unidad de Medio Ambiente, Cambio Climático y Economía Circular en Asterra Partners.
- Fernando Miguélez, Director General Ejecutivo de la Asociación Nacional de Vendedores y Reparadores de Vehículos a Motor, Recambios, Accesorios y Afines (GANVAM).
- Xabier Caño, Miembro del Consejo Rector de ASEGRE.
Se puede acceder al programa del foro y al formulario de inscripción pinchando AQUÍ.
ASEGRE ha sido uno de los actores del sector medioambiental que más ha impulsado este importante cambio en el modelo de gestión. En 2019, la asociación publicó un estudio donde se realiza un análisis comparado de la regulación en materia de residuos en varios países europeos de referencia, haciendo especial hincapié en el marco de responsabilidad asumido por los diferentes operadores de la cadena de gestión del residuo.